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近場光學(xué)顯微鏡的特點(diǎn)和技術(shù)參數(shù)介紹

更新更新時(shí)間:2020-09-24 點(diǎn)擊次數(shù):1157
  近場光學(xué)顯微鏡代替?zhèn)鹘y(tǒng)光纖探針來增強(qiáng)樣品的納米尺度區(qū)域的散射,散射信號(hào)可以在遠(yuǎn)場被檢測到,而這些散射信號(hào)攜帶了樣品在金屬探針針尖下納米級(jí)區(qū)域的復(fù)雜光學(xué)性質(zhì)。
  具體而言,這些散射光的信息包括光的振幅和相位,通過適當(dāng)?shù)哪P?,這些測量可以估算出針尖下樣品納米尺度區(qū)域材料的光學(xué)常數(shù),在某些情況下,光學(xué)相位與波長還提供了一個(gè)與同種材料常規(guī)吸收光譜近似的光譜信息。
  近場光學(xué)顯微鏡建立在基于具有納米光學(xué)表征工具原子力顯微鏡基礎(chǔ)之上,高度集成,全面自動(dòng)化,使用靈活,為研究生產(chǎn)力和易用性設(shè)定了新的標(biāo)準(zhǔn),適用于硬質(zhì)材料,特別是具有高反射率、高介電常數(shù)或強(qiáng)光學(xué)共振的材料,可以完成對(duì)所有物質(zhì)納米尺度的化學(xué)性質(zhì)分析及探索。
  一、產(chǎn)品特點(diǎn):
  1、10nm空間分辨率近場成像和光譜;
  2、快速成像和采譜技術(shù),10倍于傳統(tǒng)的空間光譜成像;
  3、背景壓制技術(shù)和光學(xué)信號(hào)收集技術(shù),確保在10nm空間分辨率下仍然保持高的信噪比;
  4、預(yù)先校準(zhǔn)光路,操作簡便;
  5、模塊化設(shè)計(jì),可拓展性強(qiáng);
  近場光學(xué)是研究距離物體表面一個(gè)波長以內(nèi)的光學(xué)現(xiàn)象的新型交叉學(xué)科,基于非輻射場的探測與成像原理,近場光學(xué)顯微鏡突破常規(guī)光學(xué)顯微鏡所受到的衍射極限,在超高光學(xué)分辨率下進(jìn)行納米尺度光學(xué)成像與納米尺度光譜研究。
  二、技術(shù)參數(shù):
  1 操作模式:透射模式,反射模式,收集模式,照明模式;
  2 原子力顯微鏡操作模式:敲擊模式,接觸模式選配,所有探針或樣品掃描的操作模式;
  3 微分干涉對(duì)比:反射和透射;
  4 折射率成像:反射和透射;
  5 在線遠(yuǎn)場共聚焦和拉曼及熒光光譜成像:反射和透射,針對(duì)選擇性拉曼散射超薄膜的探針增強(qiáng)拉曼散射;
  6 熱傳導(dǎo)及擴(kuò)展電阻成像:接觸模式,敲擊模式,音叉反饋模式無反饋激光引入干擾信號(hào);熱探針可作為納米加熱器使用,納米熱分析、納米相轉(zhuǎn)變等應(yīng)用。

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